Langdao Silex, EUV litografisinde kullanılan FlintNano LPP-OXXO ışık kaynağı prototipini tanıttı. Şirket, temel bileşenlerin yaklaşık yüzde 90’ını kendi çalışmalarıyla geliştirdiğini belirtirken sistemin ticari üretim düzeyine gelmesi için 3 ila 5 yıl öngörüyor.
Prototipin EUV çıkışı en az 15 watt
FlintNano LPP-OXXO, gelişmiş yarı iletken üretiminde kullanılan EUV litografisinin temel parçalarından biri olan ışık kaynağına odaklanıyor. Sistem, yüksek güçlü lazerlerle plazma oluşturan lazer kaynaklı plazma (LPP) yöntemini kullanıyor. ASML’nin EUV makinelerinde de kullanılan bu teknik, çok kısa dalga boylu ışık üretiyor.
Şirketin verdiği teknik bilgilere göre prototipte 1.000 watt çıkış gücüne sahip lazer bulunuyor. Lazerin tekrarlama frekansı 1.000 ile 20.000 Hz arasında değişiyor; enerji dönüşüm verimliliği yüzde 2’nin üzerinde. EUV ışık çıkış gücü ise en az 15 watt olarak açıklanıyor.
Ticari litografi makineleri, uzun süreli ve güvenilir çalışmayla birkaç yüz watt düzeyinde EUV ışık gücüne ihtiyaç duyuyor. ASML, 2018’den bu yana seri üretimde 250 watt’lık EUV ışık kaynakları kullanıyor ve 1.000 watt seviyesine ulaşmak için çalışmalar yürütüyor.
Langdao Silex, prototipin 100 saati aşkın süre kesintisiz çalıştığını bildiriyor. Sistem için açıklanan diğer değerler; 60 mikrometre plazma boyutu, yüzde 3 RMS plazma kararlılığı ve yaklaşık yüzde 5 enerji kararlılığı. Şirket temsilcilerine göre prototip, silikon levhaların ışınlandığı testlerde kullanılabilecek aşamaya ulaştı.
Seri üretim hedefi 3 ila 5 yıl
Langdao Silex, teknolojinin büyük ölçekli ticari üretime hazır hale gelmesi için 3 ila 5 yıl gerektiğini öngörüyor. Ancak mevcut teknik güçlükler ve EUV litografisinin karmaşıklığı, bu takvimin iyimser kalabileceğine işaret ediyor.
Çin daha önce de yerli EUV litografi makineleri geliştirmeye yönelik çalışmalar yaptı. Ticari kullanım için ışık kaynağının yanı sıra ultra hassas optik parçaların, yüksek doğrulukla çalışan silikon levha taşıma mekanizmalarının ve çok sayıda alt sistemi bir arada çalıştıracak entegrasyon teknolojilerinin de geliştirilmesi gerekiyor.
ASML ile aradaki fark sürüyor
ASML’nin EUV makineleri yüz binlerce bileşenden oluşuyor ve 800’den fazla iş ortağının katkısıyla üretiliyor. Çin’in yerli bir ışık kaynağı geliştirmesi önemli bir aşama olsa da bu, Hollandalı şirketin uçtan uca litografi çözümlerinin yerini alacak kapsamlı altyapının hazır olduğu anlamına gelmiyor.
Çin, mevcut DUV litografi ekipmanlarında da ASML ile rekabet etmekte zorlanıyor. Bazı değerlendirmelerde, süreç sorunsuz ilerlese bile ticari kullanıma uygun yerli EUV sistemlerinin geliştirilmesinin 8 ila 10 yıl alabileceği belirtiliyor.
